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 鋁陽氧化的陽結(jié)構(gòu)：
1) 陽氧化膜的結(jié)構(gòu) 陽氧化膜由兩層組成, 外層稱為多孔層，較厚、疏松多孔、電阻低。 華華鋁陽極氧化表示內(nèi)層稱為阻擋層(亦稱活性層)，較薄、致密、電阻高。 多孔的外層是在具有介電性質(zhì)的致密的內(nèi)層上成長(zhǎng)起來的�？傮w而言，陽氧化膜是六角柱體的列陣，每個(gè)柱體都要個(gè)充滿溶液的星型小孔，形似蜂窩狀結(jié)構(gòu)，孔壁的厚度孔隙直徑的兩倍。
(1) 阻擋層 阻擋層是由無水的AI2O3所組成, 薄而致密, 具有高的硬度和阻止電流通過的作用。(2) 多孔的外層氧化膜多孔的外層主要是由非晶型的AI2O3及少量 的r-AI2O3.H2O還含有電解液的陰離子。
氧化膜的孔徑在100nm~200nm之間，氧化膜厚度10微米左右，孔隙率20%左右，孔距300~500nm之間。氧化膜的截面圖表明氧化膜孔基本上是管狀結(jié)構(gòu)，氧化膜發(fā)生溶膜反應(yīng)基本上是在孔的底部發(fā)生的。而般的硫酸直流陽氧化膜的孔徑是20nm左右，如果是12微米的氧化膜，那是多深的細(xì)管狀結(jié)構(gòu)�。〖僭O(shè)這是個(gè)直徑1m的井，那么它的井深將有600m深。
氧化膜的大部分良特性,如抗蝕、耐磨、吸附、緣等性能都是由多孔外層的厚度及孔隙率所決定的,然而這兩者卻與陽氧化條件密切相關(guān), 因此可通過改變陽化條件來獲得滿足不同使用要求的膜層。膜厚是陽氧化制品個(gè)很主要的性能指針, 其值的大小直接影響著膜層耐蝕、耐磨、緣及化學(xué)著色能力。在常規(guī)的陽氧化過程中, 膜層隨著時(shí)間的增加而增厚。在逹到大厚度之后, 則隨著處理時(shí)間的延長(zhǎng)而逐漸變薄, 有些合金如AI-Mg、AI-Mg-Zn合金表現(xiàn)得特別明顯。因此, 氧化的時(shí)間般控制在逹大膜厚時(shí)間之內(nèi)。
2) 陽氧化膜的性質(zhì)與應(yīng)用 陽氧化膜具有較高的硬度和耐磨性、強(qiáng)的附著能力、較強(qiáng)的吸附能力、良好的抗蝕性和電緣性及高的熱緣性。華華鋁陽極氧化表示由于這些特異的性能, 使之在各方面都獲得了廣泛的應(yīng)用。
主要用途有：（1）提高零件的耐磨、耐蝕性、耐氣候腐蝕。（2）氧化生成的透明膜，可以著色制成各種彩色膜。（3）作為電容器介質(zhì)膜。（4）提高與有機(jī)涂層的結(jié)合力。作涂裝底層。（5）作電鍍、搪瓷的底層。（6）正在開發(fā)的其它用途，太陽能吸收板、超高硬質(zhì)膜、干潤(rùn)滑膜、觸媒膜、納米線、在多孔膜中沉積磁性合金作記憶元件。