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一、鋁合金硬質氧化的優(yōu)勢：
1、鋁合金硬質氧化后表面硬度可達HV500左右。
2、氧化膜厚度25-250um。
3、附著力強，根據硬質氧化所生成的氧化特點：所生成的氧化膜有50%滲透在鋁合金內部，50%附著在鋁合金表面（雙向生長）。
4、絕緣性好：擊穿電壓可達2000V（完善的封孔）。
5、耐磨性能好：對于含銅量未超過2%的鋁合金的磨耗指數為3.5mg/1000轉。其他所有的合金磨耗指數不應超過1.5mg/1000轉。
6、無毒：氧化膜和用來生產陽極氧化膜的電化學工藝應對人體無害。因此很多行業(yè)為了減輕產品的重量、機械加工的方便、環(huán)保低毒等要求目前有的部分產品中的部份零部件由鋁合金硬質氧化來代替不銹鋼、電鍍硬鉻等工藝。        
二、華華鋁陽極氧化表示硬質陽極氧化和普通陽極氧化的區(qū)別：硬質氧化的氧化膜有50%滲透在鋁合金內部，50%附著在鋁合金表面，因此硬質氧化后產品外部尺寸變大，內孔變小。      
（一）操作條件方面的差異：
 1、溫度不同：普通氧化18-22℃左右，有添加劑的可以到30℃，溫度過高易出現粉
末或裂紋；硬質氧化一般在5℃以下，相對來說溫度越低硬質越高。
 2、濃度差異：普通氧化一般20%左右；硬質氧化一般在15%或更低。
 3、電流/電壓差異：普通氧化電流密度一般：1-1.5A/dm2；而硬質氧化：1.55A/dm2；普通氧化電壓≤18V，硬質氧化有時高達120V。        
（二）膜層性能方面的差異：
 1、膜層厚度：普通氧化膜層厚度相對較薄；硬質氧化一般膜層厚度>15μm，過低達不到硬度≥300HV的要求。
 2、表面狀態(tài)：普通氧化表面較光滑，而硬質氧化表面較粗糙（微觀，和基體表面粗糙度有關）。
 3、孔隙率不同：普通氧化孔隙率高；而硬質氧化孔隙率低。
 4、普通氧化基本是透明膜；硬質氧化由于膜厚，為不透明膜。
 5、適用場合不同：普通氧化適用于裝飾為主；而硬質氧化以功能為主，一般用于耐磨、耐電的場合。